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半导体干法刻蚀技术:原子层工艺

半导体干法刻蚀技术:原子层工艺

作者:[美] 索斯藤·莱尔

2023.8.1 出版

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主编推荐语

本书以特定刻蚀应用为例,介绍原子层刻蚀技术。

内容简介

集成电路制造向几纳米节点工艺的发展,需要具有原子级保真度的刻蚀技术,原子层刻蚀(ALE)技术应运而生。 本书主要内容有:热刻蚀、热各向同性ALE、自由基刻蚀、定向ALE、反应离子刻蚀、离子束刻蚀等,探讨了尚未从研究转向半导体制造的新兴刻蚀技术,涵盖了定向和各向同性ALE的全新研究和进展。

出版方

机械工业出版社